Murad Rapid Relief Svavelmask - Ansiktsmask - 75 ml

Beautycos

Murad Blemish Control Rapid Relief Sulphur Mask är en kraftfull och snabbverkande ansiktsmask designad för att bekämpa fläckar och minska uppkomsten av finnar på bara 4 timmar. Den absorberande formulan drar överflödig olja och orenheter från huden, samtidigt som den lugnar och minskar rodnad. Denna mask innehåller svavel som hjälper till att bekämpa orenheter och minska överskottsproduktion av olja. Samtidigt hjälper Zinkoxid till att lugna och minska rodnad, medan Kaolinlera hjälper till att absorbera olja och orenheter från huden. Ansökan: - För att använda denna mask, rengör och torka först ansiktet. - Applicera sedan ett tunt lager av masken över hela ansiktet, undvik området kring ögonen. - Låt masken sitta i 10 minuter och skölj sedan noggrant med varmt vatten. - Använd den helst 1-3 gånger i veckan för att uppnå bästa resultat. Denna mask är lämplig för alla hudtyper, speciellt för dem som är utsatta för orenheter och tilltäppta porer.

MEDS

Murads nya Rapid Relief Acne Sulfur Mask är inspirerad av dermatologers tillvägagångssätt för kombinationsbehandling och kombinerar effektiva ingredienser för att börja kyla och eliminera finnar på 10 minuter. Denna lyxiga flytande lermask innehåller mikroingredienser som hjälper till att tränga in i porerna för att avlägsna orenheter, omedelbart lugna rodnad och återfukta huden utan att torka ut för mycket. Den silkeslena formulan sköljs av och lämnar huden lugn och fräsch.  Nyckelteknologi: svavel behandlar och förebygger effektivt akne. Salicylsyra exfolierar för en jämnare textur. Kaolinlera och zink absorberar överflödig olja och glans och minimerar porerna. Naturligt torvextrakt återfuktar och lugnar huden och minskar rodnad. Eukalyptusolja ger en mer behaglig naturlig doft jämfört med typiska svavelhaltiga produkter.

Deloox

Murad Blemish Control Rapid Relief Sulfur Mask 75 ml. Den här Mask från Murad är lämplig för Torr hud/Kombinerad hud/Oljig hud/blemmad hud. Innehållet i denna produkt är 75 ml.